Инспекционный микроскоп Nikon Eclipse L300
- Производитель:
- 1
- Тип микроскопа:Прямой
- Класс микроскопа:Исследовательский
- Область применения:Микроэлектроника, полупроводниковое производство
- Методы исследования:В отраженном (Nikon L300N) и проходящем (L300ND) свете
- Методы получения изображения:Светлое поле/темное поле/поляризация/ДИК-метод и др.
- Класс объективов:Полуапохроматический/ апохроматические
- Диапазон увеличений:х50-х2000
- Вывод изображения:Есть (тринокуляр)
- Освещение:Галогеновый / ксеноновый
- Особенности:Возможность оснащения автоматической системой подачи образцов NWL200, которая позволяет построить полностью автоматизированный комплекс контроля качества.
Инспекционные микроскопы Nikon L300N и L300ND предназначены для изучения и контроля качества интегральных схем.
Использование объективов CFI60 идеально подходит для проверки 200-миллиметровых пластин и масок. В сочетании с превосходной оптической системой Nikon CFI60 LU / L и новой системой освещения этот микроскоп обеспечивает воспроизведение изображений с большей контрастностью, высокой разрешающей способностью и работу в режиме темного поля в три раза ярче, чем было достигнуто ранее. При использовании независимо или в сочетании с загрузчиками пластин серия L300 выполняет исключительно точный оптический контроль пластин, фотошаблонов, сеток и других подложек.
Nikon L300N предназначен для изучения полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм при эпископическом освещении, проведения исследований в светлом и темном поле, ДИК и поляризованном свете (для работы только в отраженном свете).
Моторизованный 6-ти позиционный револьвер с центровкой объективов; есть возможность подключения моторизированной системы фокусировки, автоматическое управление полевой и апертурной диафрагмами;
Три типа осветителей: галогенный 100 Вт (150 Вт) и ксеноновый 75 Вт;
Специализированный столик с перемещением по XY 354 х 268 мм и набором вставок;
Управление микроскопом вынесено на переднюю панель; имеется возможность подключения дистанционного пульта, что в совокупности с автоматической системой подачи образцов NWL200 позволяет построить полностью автоматизированный комплекс контроля качества.
Nikon L300ND предназначен для изучения полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм при эпископическом и диаскопическом освещении, проведения исследований в светлом и темном поле, методом ДИК и в поляризованном свете (для работы в отраженном и проходящем свете).
Благодаря разработке новой линейки объективов с использованием линзы Френеля для работы на сверхбольших расстояниях, удалось значительно увеличить рабочее расстояние, при этом парфокальное расстояние стало меньше, размеры и вес объективов также уменьшились.
Многолетний опыт и тесное сотрудничество со специалистами в разных областях промышленности помогли разработать удобную и эргономичную модульную конструкцию микроскопа. Специальное антистатическое покрытие предотвращает попадание инородных частиц на образец.
Механизм управления предметным столом для прецизионного перемещения по осям XY расположен так, что позволяет управлять перемещением стола и фокусировкой микроскопа одной рукой.
Разница между микроскопами L200 и L300 только в размерах предметного стола и, как следствие, в возможности проводить инспекцию пластин большей площади.
Применение:
- Антенны
- Телекоммуникации и электроника
- Полупроводниковые пластины
- Мобильные телефоны, бритвы и часы
| Корпус | Встроенная эпископическая подсветка; встроенные источники питания для моторизованного управления; моторизованное управление револьвером; регулировка интенсивности света; управление апертурной диафрагмой |
| Механизм фокусировки | Поперечный ход: 29 мм; Грубая фокусировка: 12,7 мм/об. (регулировка усилия, имеется механизм рефокусировки); Точная фокусировка: 0,1 мм/об. (шаг 1 мкм). |
| Эпископический осветитель | Встроенный источник света галогенной лампы 12В / 100Вт; моторизованная апертурная диафрагма (центрируемая); диафрагма фиксированного поля (с фокусирующей мишенью); может быть установлен ползунок с отверстиями (опция); можно установить четыре 25-миллиметровых фильтра (NCB11 / ND4 / ND16 / GIF); поляризатор; анализатор |
| Револьвер | Шестиместный универсальный револьвер с фиксированным приводом; предусмотрен слот для крепления ДИК |
| Окулярные тубусы | L2TT - Сверхширокоугольный тринокулярный окуляр (угол наклона 0-30 °, прямое изображение); F.O.V .: 25 мм; переключение оптического пути: 2-стороннее (бинокль: фото 100: 0/0: 100) |
| Предметные столики | Предметный столик 8 х 8; ход: 354 х 268 мм; возможно переключение грубого / точного движения; фиксированные элементы управления точным перемещением по осям X и Y |
| Окуляры | Серия линз окуляра CFI |
| Объективы | CFI60 LU / L Plan серии |
| Вес | Около 45-ти кг при использовании столика 8 x 8 и окулярной трубки L2TT |
| Стандарт: | SEMI S2-93A, S8-95, CE, UL |
Скачать брошюру
В основе почти каждого электронного продукта лежат тонкие полупроводниковые пластины, на которых создаются микросхемы за счет диффузии и осаждения различных веществ. Индустрия микроэлектроники, представляющая одну из самых сложных областей современной технологии, существовала в соответствии с историческими принципами, согласно которым каждое поколение микросхем должно быть тоньше, эффективнее и дешевле.
Сегодня производители пластин также сталкиваются с повышенным давлением со стороны потребителей, чтобы они быстрее выводили свои новейшие продукты на рынок. В то время как предыдущие поколения микрочипов выпускались каждые два или четыре года, сегодняшний оборот исчисляется месяцами, и многие клиенты ожидают появления новых продуктов каждый год. Хотя переход к устройствам нанометровых размеров может помочь снизить стоимость каждой функции каждого устройства, требования к конструкции этих высокопроизводительных чипов также создают новые технические проблемы для метрологии, используемой при их производстве и контроле.
В этом трудоёмком процессе даже малейшее отклонение может иметь значительные последствия для последующей обработки, что может привести к потерям, исчисляемым миллионами долларов. Производители в этой отрасли должны всегда внимательно следить за производственными дефектами на краях пластины, а также за возможными дефектами субмикронного масштаба, такими как загрязняющие частицы, открытые линии и короткие замыкания между линиями. Чтобы добиться этого, отделы контроля полагаются на изображения в проходящем и отраженном свете (с использованием белого света или лазеров) для выявления поверхностных дефектов на ранней стадии производственного процесса, чтобы можно было быстро принять меры по исправлению положения.
Пока не было вопросов.
Применение микроскопов NIKON в микроэлектронике
МИКРОЭЛЕКТРОНИКАМеньше, дешевле, быстрее - то, что постоянно заботит производителей микроэлектронных устройств. В микроэлектронике каждое новое поколение продуктов должно превосходить предшественников, уменьшаясь в размерах без существенного увеличен..
MEMS и NEMS
MEMS и NEMSВ сегодняшнем мире размеры электронных изделий и компонентов уменьшаются с каждым годом. В таких условиях MEMS (микроэлектромеханические системы) и NEMS (наноэлектромеханические системы) становятся технологическими стандартами.
Устройства..
Пока не было вопросов.
